キーワード:半導体プロセス

数物・電子情報系学科 電子情報システム教育プログラム


シリコンデバイス研究室

キーワード:
半導体工学、実装工学、半導体プロセス、誘電体薄膜、強誘電体メモリFeRAM
教授
羽路 伸夫HANEJI, Nobuo
専門分野
半導体工学、実装工学
主な担当授業科目
  • 電気数学I (1年)、
  • 電子物性 (2年)、
  • 電子デバイス (3年)
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Siデバイスや実装技術は情報社会の基盤

強誘電体FETの開発や、室温で誘電体薄膜を形成するユニークな液相堆積プロセス、高密度実装技術などの研究をしています。

  • Preparation of Amorphous Fluorinated Carbon Film Using Low Global-Warming Potential Gas, C4F6, by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, Jap. J. Appl. Phys, 45(6), 1511-153, 2006(共著)
  • アナログ集積回路設計技術、2003、分担

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